半導體清洗超純水制取設備/EDI超純水設備
?反滲透法優點
①不需加熱、沒有相變;
②能耗少;過程連續穩定;
③設備體積小、操作簡單，適應性強;
④對環境不產生污染。
反滲透超純水系統根據不同的源水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統處理后，產水電導率<10-20μS/cm，經二級反滲透系統后產水電導率<5μS/cm甚至更低，在反滲透系統后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水，使電阻率高達18兆歐姆.厘米)。 反滲透膜老化或受污染后，產水質量會下降。
應用領域
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。
食品工業用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業等。
海水、苦咸水淡化：海島、艦船、高鹽堿地區生活用水改善
樓宇、社區優質供水:星級賓館、機場、房產物業純水網絡系統等
化工行業工藝用水：化工冷卻、化肥、化學藥劑制造
工業產品制造用水：汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等
電力行業鍋爐補給水:熱力、火力發電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統 精細化工、精尖學科用水
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